직무 · 삼성전자 / 공정기술
혹시 ds 공정기술 직무 반도체 8대 공정(포토, 에치, 클린, cmp, cvd, 메탈, …) 중 여성 비율이 가장 낮은 공정이 무엇인가요?
2025.07.07
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안녕하세요, 2026년 2월 졸업 예정인 국숭라인 25살입니다. 제 대략적인 스펙은 3.76/4.5 오픽 IM3, JLPT N3 공정실습 2회, 공정교육 2회 소자 제작 및 최적화 프로젝트 1회 삼성전자 펑택사업장에서 ETCH 장비 유지보수, 개조 업무 6개월 평소 업무를 수행하며 공정레시피에 관한 호기심이 있었기에 삼성전자 공정기술 직무를 준비해보고 싶어 질문드립니다. 먼저, 지금까지의 경험으로 장비의 트러블로 인하여 발생하는 공정 이상이나 수율 문제 등의 매커니즘과 해결방법은 대부분 알고 있다고 생각합니다. 과연 이러한 경험들이 삼성전자 공정기술 직무에 도움이 될지 궁금합니다 두번째로, 공정기술 직무는 공정 레시피를 최적화 하는 업무를 수행한다고 알고 있습니다. 핏한 직무 경험을 위해 퇴사를 고려하고 있는 상황입니다. 퇴사 이후, 6개월정도 관련 공적 최적화 교육이나 프로젝트에 참여하려고 하는데 정규직 6개월 퇴사가 좋지 않아보일까 걱정입니다. 조언 부탁드리겠습니다.
안녕하세요! 화공과 4-1을 마치고 이번 학기에 휴학을 계획 중인 학생입니다. 휴학 기간을 최대한 알차게 활용하고 싶어, 어떻게 준비하면 좋을지 조언을 구하고자 글을 남깁니다. 저의 목표 직무는 반도체 공정기술과 품질관리입니다. 현재는 ADsP, 위험물산업기사를 보유하고 있고, 휴학 중에는 오픽 IH 이상, 품경기, 6시그마 GB, 자소서 작성 및 전공 복습, 인턴 지원을 계획하고 있습니다. 이 외에도 휴학 기간 동안 꼭 해두면 좋은 활동이 있을까요? 또 하나 궁금한 점이 있는데, 미래내일 일경험이 도움이 될까요? 원하는 분야와 핏하게 맞진 않지만 분석기기나 데이터 정리 등을 체험해볼 수 있다면 도움이 될 수 있을까요?
DRAM Peri Tr. S/D Silicide 물질로 Co,Ni가 둘다 쓰이는지 궁금합니다. Peri Tr.중에 Co가 쓰이는게 있고 Ni가 쓰이는게 있고 이런식인 건가요??
안녕하세요, 2026년 2월 졸업 예정인 국숭라인 25살입니다. 제 대략적인 스펙은 3.76/4.5 오픽 IM3, JLPT N3 공정실습 2회, 공정교육 2회 소자 제작 및 최적화 프로젝트 1회 삼성전자 펑택사업장에서 ETCH 장비 유지보수, 개조 업무 6개월 평소 업무를 수행하며 공정레시피에 관한 호기심이 있었기에 삼성전자 공정기술 직무를 준비해보고 싶어 질문드립니다. 먼저, 지금까지의 경험으로 장비의 트러블로 인하여 발생하는 공정 이상이나 수율 문제 등의 매커니즘과 해결방법은 대부분 알고 있다고 생각합니다. 과연 이러한 경험들이 삼성전자 공정기술 직무에 도움이 될지 궁금합니다 두번째로, 공정기술 직무는 공정 레시피를 최적화 하는 업무를 수행한다고 알고 있습니다. 핏한 직무 경험을 위해 퇴사를 고려하고 있는 상황입니다. 퇴사 이후, 6개월정도 관련 공적 최적화 교육이나 프로젝트에 참여하려고 하는데 정규직 6개월 퇴사가 좋지 않아보일까 걱정입니다. 조언 부탁드리겠습니다.
안녕하세요! 화공과 4-1을 마치고 이번 학기에 휴학을 계획 중인 학생입니다. 휴학 기간을 최대한 알차게 활용하고 싶어, 어떻게 준비하면 좋을지 조언을 구하고자 글을 남깁니다. 저의 목표 직무는 반도체 공정기술과 품질관리입니다. 현재는 ADsP, 위험물산업기사를 보유하고 있고, 휴학 중에는 오픽 IH 이상, 품경기, 6시그마 GB, 자소서 작성 및 전공 복습, 인턴 지원을 계획하고 있습니다. 이 외에도 휴학 기간 동안 꼭 해두면 좋은 활동이 있을까요? 또 하나 궁금한 점이 있는데, 미래내일 일경험이 도움이 될까요? 원하는 분야와 핏하게 맞진 않지만 분석기기나 데이터 정리 등을 체험해볼 수 있다면 도움이 될 수 있을까요?
DRAM Peri Tr. S/D Silicide 물질로 Co,Ni가 둘다 쓰이는지 궁금합니다. Peri Tr.중에 Co가 쓰이는게 있고 Ni가 쓰이는게 있고 이런식인 건가요??
답변 7
멘티님, 삼성전자 DS 공정기술 직무에서 반도체 8대 공정 중 여성 비율이 가장 낮은 공정은 일반적으로 포토(Photolithography)와 에치(Etch) 공정으로 알려져 있습니다. 포토 공정은 고도의 정밀성과 청정 환경이 요구되며, 장시간 서서 일하거나 교대근무가 많아 체력적 부담이 크기 때문에 여성 비율이 상대적으로 낮은 편입니다. 에치 공정 역시 유해 화학물질과의 접촉 가능성이 높고, 작업 환경이 까다로워 남성 비율이 높게 나타나는 경향이 있습니다. 반면, 클린(Clean), CMP, CVD, 메탈 등의 공정은 상대적으로 여성 엔지니어의 비율이 더 높거나 평균에 가까운 것으로 알려져 있습니다. 다만, 최근에는 전체적으로 여성 엔지니어의 비율이 점차 증가하는 추세이며, 각 사업장과 팀별로 차이가 있을 수 있습니다. 채택부탁드립니다!
안녕하세요 지원자님~! 삼성전자 DS 부문의 공정기술 직무에서 성비에 대해 궁금하신 거죠~? 특히 반도체 8대 공정 중 어떤 공정에서 여성 비율이 상대적으로 낮은지에 대한 질문이셨어요! 정확한 인사자료는 내부정보라 공개되어 있지 않지만, 현직자 경험, 채용 트렌드, 산업 특성 등을 종합해 보면 아래와 같은 경향이 있어요~! 대체로 클린(Clean), CMP, 포토(Photo) 공정은 여성 엔지니어 비율이 상대적으로 높은 편이에요. 이유는 비교적 정밀도와 장비 오퍼레이션 중심의 작업이 많고, 장비 접근성과 환경도 타 공정에 비해 쾌적한 편이라 선호도가 높기 때문이에요~! 반면에 Etch(식각), CVD, Metal 공정은 여성 비율이 상대적으로 낮은 편으로 알려져 있어요. 특히 Etch 공정은 고진공/고온 상태에서의 가스 반응, 플라즈마 가공 등 공정 난이도나 장비의 물리적 접근성, 그리고 야간 대응 빈도가 높아 상대적으로 여성 비율이 낮은 경향이 있습니다~! 또한 Metal 공정도 고온의 Deposition, 필름 두께/저항값 관리 등 공정 난이도나 유지보수 복잡도가 높아서 신입 여성 지원자 수가 상대적으로 적은 편이에요. 하지만!! 최근에는 성비 격차를 줄이기 위한 채용 다양성 확대와, 공정자동화 및 스마트팩토리 환경이 보편화되면서 과거보다 여성 엔지니어 분포가 훨씬 고르게 바뀌고 있는 추세랍니다~! 결론적으로는 Etch → Metal → CVD 순으로 여성 비율이 낮은 편이라고 보시면 되고, Photo, Clean, CMP 공정은 비교적 여성 지원자도 많고 진입 장벽이 낮은 편이에요~! 다만, 공정 난이도보다는 지원자님의 흥미와 적성, 전공 강점에 맞는 공정을 선택하시는 게 가장 중요하다는 점, 꼭 기억해 주세요!! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!
