직무 · 삼성전자 / 공정기술
Gate etch하는 과정에서 Vertical한 식각 프로파일리 왜 중요할까요? Gate가 채널에 영향을 주는 구조라던데 혹시 이 때문일가요? 자세한 내용 알고 싶습니다!
2024.11.19
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4. 지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는 전문지식/경험(심화전공,프로젝트,논문,공모전 등)을 작성하고, 바탕으로 본인이 지원 직무에 적합한 사유를 구체적으로 서술해주시기 바랍니다. 아스펜플러스를 이용해 공정 수율을 향상시킨 프로젝트에 대한 내용을 적어도 될까요?? 주제는 그린암모니아 합성 공정입니다. 반도체 공정기술과 관련이 없는데 적어도 될까요,,,??
안녕하세요 소재 쪽 석사 졸업자입니다. 다름이 아니라 렛유인 같은 사이트에서 국가지원금으로 KDT 반도체 전문가 과정을 모집해서 공정실습, 반도체 실무 프로젝트 들을 장기간 진행하는 과정이 있는데 대부분 학부 졸업생들이 많이 수강하는 것으로 알고 있습니다. 석사 졸업자에겐 굳이 시간 낭비일지 .. 여쭤보고 싶습니다. 파이썬과 딥러닝 까지 이론및실습을 배울 수 있는것과 실무 프로젝트는 또 도움이 될 것 같다고 생각해서요 !
대내외 활동 후 활동내용에 대한 부분을 작성중에 있는데 이 부분에 몇자까지 쓰는것이 좋나요..? 너무 길어지는건 안좋을것 같은데 다양한 내용을 쓸려다 보니까 조금 길어지는 것 같아서요,, 한 150자 정도로 요약하는것이 좋을까요?
4. 지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는 전문지식/경험(심화전공,프로젝트,논문,공모전 등)을 작성하고, 바탕으로 본인이 지원 직무에 적합한 사유를 구체적으로 서술해주시기 바랍니다. 아스펜플러스를 이용해 공정 수율을 향상시킨 프로젝트에 대한 내용을 적어도 될까요?? 주제는 그린암모니아 합성 공정입니다. 반도체 공정기술과 관련이 없는데 적어도 될까요,,,??
안녕하세요 소재 쪽 석사 졸업자입니다. 다름이 아니라 렛유인 같은 사이트에서 국가지원금으로 KDT 반도체 전문가 과정을 모집해서 공정실습, 반도체 실무 프로젝트 들을 장기간 진행하는 과정이 있는데 대부분 학부 졸업생들이 많이 수강하는 것으로 알고 있습니다. 석사 졸업자에겐 굳이 시간 낭비일지 .. 여쭤보고 싶습니다. 파이썬과 딥러닝 까지 이론및실습을 배울 수 있는것과 실무 프로젝트는 또 도움이 될 것 같다고 생각해서요 !
대내외 활동 후 활동내용에 대한 부분을 작성중에 있는데 이 부분에 몇자까지 쓰는것이 좋나요..? 너무 길어지는건 안좋을것 같은데 다양한 내용을 쓸려다 보니까 조금 길어지는 것 같아서요,, 한 150자 정도로 요약하는것이 좋을까요?
답변 5
지원자님, 안녕하세요!~ Gate etch 공정에 대해 궁금해하신 부분을 자세히 풀어드릴게요! Gate 식각 과정에서 Vertical한 식각 프로파일이 왜 중요한지, 그리고 그것이 채널에 미치는 영향에 대해 말씀드릴게요~! Gate는 채널 위에 위치해서 전류의 흐름을 제어하는 핵심적인 역할을 해요. Gate를 통해 전압을 조절하면서 채널에서 전류가 흐르거나 차단되도록 하는 거죠. 이때, Gate 식각이 Vertical하지 않고 기울어지거나 비대칭적으로 식각되면, Gate와 채널 사이의 전기장이 균일하지 않게 형성될 수 있어요. 전기장이 비대칭적이면 채널 내 전자 이동 경로가 왜곡되면서 전류의 흐름이 불안정해질 수 있답니다~! 특히, 미세 공정에서 채널 길이가 짧아질수록 이런 작은 불균일도 소자의 성능에 크게 영향을 줄 수 있어요. Vertical하지 않은 식각으로 인해 Gate가 한쪽으로 더 두꺼워지거나 얇아지면, 채널 내에서 누설 전류가 증가하거나 스위칭 특성이 저하될 수 있어요. 결국, 소자의 신뢰성 문제로도 이어질 수 있기 때문에 Vertical한 식각 프로파일이 아주 중요한 거랍니다! 정리하자면, Vertical한 Gate 식각은 채널에서 균일한 전기장 분포를 보장하고, 소자의 전류 특성과 신뢰성을 유지하기 위해 반드시 필요하다는 거죠! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~! ~~
안녕하세요. Gate 식각 과정에서 Vertical한 식각 프로파일이 중요한 이유는 다음과 같습니다. 1. 정확한 Gate 길이 확보: 수직 식각이 이루어져야 설계된 Gate 길이를 정확히 유지할 수 있어, 소자의 전기적 특성이 설계대로 구현됩니다. 2. 전기장 균일성: 수직 프로파일은 채널 내 전기장을 균일하게 형성해 전류 흐름을 최적화합니다. 3. 단채널 효과 최소화: 비수직 식각은 Gate 길이를 비대칭적으로 만들어 누설 전류 및 임계 전압 변동을 초래할 수 있습니다. 4. 소자 성능 및 신뢰성 향상: 수직 프로파일이 유지되면 캐리어 이동도가 안정적으로 유지되고, 불필요한 전류 경로를 방지해 소자 신뢰성이 향상됩니다.
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