노광공정에서 ADI CD 차이가 나타나는 원인은 여러 가지가 있을 수 있습니다. 그 중에서도 가장 일반적인 이유는 노광공정 중 positive PR 성질에 의한 빛의 회절 때문입니다. 노광 공정에서 사용되는 광원은 일반적으로 빛의 파장이 매우 짧은 UV광을 사용하며, 이 광은 반사되거나 흡수되지 않고 PR 층을 통과하게 됩니다. 이때 PR 층 내부에서 빛은 회절되어 다른 방향으로 퍼지게 되며, 이로 인해 CD가 변화하게 됩니다.

또 다른 이유로는 projection 방식이 아닌 proximity 방식을 사용하여 노광을 하는 경우에도 ADI CD 차이가 발생할 수 있습니다. projection 방식은 노광기에 있는 마스크 패턴을 직접 찍어내는 방식으로, 마스크와 PR 층 사이의 거리가 일정하게 유지되어 광선이 직접 PR 층에 도달하게 됩니다. 하지만 proximity 방식은 마스크와 PR 층 사이의 거리가 일정하지 않고, 광선이 마스크를 통과한 후 PR 층에 도달하게 됩니다. 이때 마스크와 PR 층 사이의 거리가 멀어지면서 빛이 회절되어 CD 차이가 발생하게 됩니다.

따라서, 노광공정에서 ADI CD 차이가 나타나는 가장 큰 원인은 노광 중 발생하는 빛의 회절입니다. 이를 방지하기 위해서는 노광 조건을 최적화하고, 노광기의 정확한 정렬과 광원의 조절이 필요합니다. 또한, 노광기의 종류나 사용되는 PR 층의 성질에 따라서도 ADI CD 차이가 발생할 수 있으므로, 이를 고려하여 노광 조건을 설정해야 합니다.

안녕하세요.

노광시간은 빛에 얼마나 노출되었느냐인데, 시간이 충분하지 못하면 광감응이 덜되어 PR내 고분자 반응이 덜 될수도 있습니다.

공정 recipe 변화라면 말씀하신대로 장비 변경에 따라 해상도 차이가 날 수 있겠습니다.

pr성질에 따라 회절 및 노광방식이 달라져 pr노광에 미세한 차이가생기면 dev후 에치에서 차이가 그대로전사되어 cd값이 틀어지는것이 맞습니다.

positive pr성질에 의한 회절은 아닙니다. negative pr에도 동일하게 적용되는 회절현상이라서요.
prox방식은 갭발생때문에 생기는 회절현상을 막는게 불가능하기 때문에 이론적으로 언급하신게 타당합니다.