취업 · 삼성전자 / 공정설계

Q. 반도체 공정실습 과정에서 발생한 문제인데 원인에 대해 분석좀 해주세요

이승우할수있다

제가 공정실습에 ITO 박막이 증착된 Wafer에 LiF를 다시 증착하였고 그 위에 PR Coating을 진행하였습니다. 그과정에서 모서리 부분에 PR이 제대로 코팅되지 않았습니다. 제대로 입혀지지 않은 상태에서 노광 후 습식 식각, 클리닝을 진행했는데 PR이 제대로 입혀지지 않은 부분만 전류가 흐르지 않았습니다. 이 과정에서, PR Coating이 제대로 되지않아 LiF가 식각되어 전류가 흐르지 않았다고 이해해도 될까요?


2024.02.09

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

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