회사/산업 · 삼성전자 / 공정설계
Q. 에칭
Plasma etching이 er이나 selectivity가 낮은 거로 알고 있는데 이를 개선하기 위해서는 어떤 방법이 있을까요?
플라즈마 종류나 압력 온도 바꿔가면서 테스트하는건가요?
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에칭 입장에서는 에칭가스의 비율, 농도. Bias po.의 세기. Antenna po. 챔버압력. 온도등을 조절하며 최적의 조건을 잡습니다.
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Selectivity가 낮다는건 사실이 아닙니다. 뿐만 아니라 ER도 조절이 가능합니다.
가스종류, 온도, 압력 모두 공정 변수에 속합니다.
2020.09.07