Q. Photo 공정 및 CMP 공정 관련 질문 드립니다.

답변 5

• l

  liberty_33삼성전자

  코과장 ∙ 채택률 62% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  1,2 번을 포괄해서 설명드리자면 포토에서 DOF도 중요하지만 포토에서 DOF 조절은 어려워서 그것을 해결하기 위해 CMP 가 생겨났다고 보면 됩니다. 포토 공정에서 빛을 조사하는 과정에서 DOF 가 좋지 않으면 초점이 맞지 않는다고 보면 됩니다. 즉, 비유하자면 카메라를 찍는데 흐릿하게 찍힌다는 거죠. 그것을 CMP 공정으로 평탄화로 인해 초점을 맞춤으로써 포토공정이 더욱 미세하게 진행할 수 있게 되는 겁니다.

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• 9

  9를래삼성전자

  코사원 ∙ 채택률 100%

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  채택된 답변

  1) 더 높은 성능의 칩을 제작하기 위해서 입니다. CD가 작을수록 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있어 고성능의 칩을 제작할 수 있습니다. 하지만 resolution이 낮을수록 Focus를 맞추기 쉽지 않은것도 사실입니다. 둘 중 뭐가 더 중요한지는 제품에 따라 다를 것 같네요. 갖춘 설비와 조건속에서 최적화를 하는것이 엔지니어의 역할입니다. 2) layer 별 단차가 있으면 Focus를 맞추기 힘듭니다. 이는 작은 선폭을 구현할수록, 더 많은 층을 쌓을수록 난이도가 올라가기 때문에 CMP공정을 중간에 추가하는 것이 중요합니다.

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• 코

  코칭E삼성전자

  코부장 ∙ 채택률 65% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  안녕하세요. 1. 일단 둘 다 중요합니다. 산포를 얼마나 갖고 갈 수 있는지에 차이에 따라 DOF와 R값을 조절할거 같네요. 2. CMP의 중요성은 집적도에 따라 높아졌어요. 평탄화가 중요한 이유는 빛의 DEFOCUS 때문이 높다고 생각합니다. 도움이 되셨다면 채택 부탁드립니다.

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• 꼬

  꼬리링삼성전자

  코차장 ∙ 채택률 68% ∙

  회사

  일치

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  안녕하세요 멘티님 1. DOF를 컨트롤하려면 크기와 같은 물리적 이슈 및 비용 이슈에서 resolution을 컨트롤 하는 것이 더 이득이기 때문입니다. 2. 스택형으로 구성되는 반도체에서 평탄도에 이슈가 생기면 다음 포토 공정에서 초점이 잘 맞지않아 수율이 저하될 수 있어서 입니다. 타 공정으로 넘어갔을 때, 이전 공정에서의 이슈를 최소화하는 것 이지요.

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• 다

  다시 돌아온 상코미코

  코사장 ∙ 채택률 99%

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  채택된 답변

  안녕하세요 멘티님 해당 질문에 대해 답변 드리겠습니다. 1. DOF는 CMP와 같은 방법으로 해결이 가능하지만 Resolution 같은 경우 해결이 불가합니다. 미세화를 위해 필요하기 때문입니다. 2. 노광하는 과정을 생각해보시면 빛이 지나가는데 단차가 있거나 굴곡이 있으면 DOF가 작기에 각 부분마다 PR반응이 다릅니다. 따라서 동일한 높이에 두고 반응을 시키기 위함입니다. 도움이 된 답변이라면 채택 부탁드려요! 취업에 성공하시길 바랍니다!

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