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mask CD(패터닝의 input)가 커질수록 ADI CD-ACI CD(etch bias)값이 커지는 이유 (즉, 더 큰 음수가 되는 이유)가 뭔지 궁금합니다.. 단순히 생각하면 mask CD가 작을수록 빛의 회절현상에 더 큰 영향을 받아서 etch bias가 커질 것 같은데 반대로 mask CD가 작을수록 etch bias는 작아지는 이유가 뭘까요?ㅠㅠ
2023.08.09
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이번에 올라 온 jd 메모리사업부 패키지개발에서 post fab 단위 공정 개발 (photo etch clean cmp metal cvd EP WSS)는 RDL 단위 공정 개발을 말하는 걸까요?
이번에 앰코에 면접 보러 가게 되어 준비중입니다. 자기소개를 써봤는데 한 번 봐주시면 감사하겠습니다. 안녕하십니까 지원자 ***입니다. 저는 전자회로실험 중 공강시간마다 회로를 수정하고 측정하여 깨끗한 파형을 얻어내고, 오차율을 10% 이내로 줄여서 해당 과목에서 A+를 받아낸 경험이 있습니다. 또한, 교내 근로장학생으로써 강의실의 트러블이 발생하였을 때 담당 선생님을 돕거나 직접 해결 방안을 제시하는 등으로 3년간 근무하였습니다. 저는 이러한 경험을 바탕으로 패키징 공정에서 문제가 발생했을 때, 원인을 파악하고 해결을 하는데 기여하겠습니다. 자기소개 + 필살기1 + 필살기2 + 입사 후 포부(간단히)로 마무리 했습니다. 말해보니까 약 50초 이하 나오더라구요. 어떤지 평가부탁드립니다.
직무관련 수상경력에 작성하시나요..?
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답변 2
채택된 답변댓글 1
2023.08.09
그러면 CD가 넓을수록 ACI CD 가 늘어나니까 ADI CD-ACI CD는 작아지는 것 아닌가요?(ADI CD와 ACI CD의 차이)
