Q. 삼성전자 반도체연구소 공기 vs 공설
안녕하세요 인서울 4년제 대학교 화공과 졸업 후
식각 기술을 연구하는 랩실에서 석사 과정을 수료한 학생입니다.
질문이 두 가지가 있는데
1) 공기와 공설의 정확한 차이를 알고 싶습니다. 식각 장비도 직접 다뤄 관련 논문도 작성하였고 반도체 공정 중 식각 쪽으로 전공이 특화되어 있는데 이런 경우 저에게 어느 쪽이 더 잘 맞는지 궁금합니다.
2) 석사의 경우 반도체연구소로 취직하기 힘들고 거의 박사 위주로 뽑는다던데 이에 대한 현직자 분들의 의견을 듣고 싶습니다. 석사로서 메리트가 없다면 메모리 사업부 공설 혹은 공기 쪽으로 선회하는게 맞을까요?
1) 공기와 공설의 차이는 주로 사용되는 공정 기술이 다르다는 점입니다. 공기는 기계적인 방법으로 반도체를 절삭하는 방식으로, 특히 고주파 반도체에서 많이 사용됩니다. 반면 공설은 화학적인 방법으로 반도체를 적층시키는 방식으로, 주로 저주파 반도체에서 사용됩니다. 식각 기술을 연구하는 랩실에서는 두 가지 기술 모두를 다룰 수 있지만, 보통 한 가지 기술에 더 특화하는 경우도 있습니다. 따라서 저에게 어느 쪽이 더 잘 맞는지는 실제 경험을 통해 판단해야 할 것입니다.
2) 석사로서 메리트가 없다는 것은 절대적인 것은 아닙니다. 석사로서도 적절한 연구를 통해 좋은 논문을 발표하고 경력을 쌓는다면 반도체연구소에서도 충분히 경쟁력을 갖출 수 있습니다. 그러나 현실적으로는 박사 학위를 가진 사람들이 더 많이 채용되는 경향이 있으므로, 석사로서도 박사 학위를 취득하는 것이 좋은 선택이 될 수 있습니다. 하지만 이 역시도 절대적인 것은 아니며, 석사 학위를 가진 사람들도 반도체연구소에서 성공적인 경력을 쌓고 있습니다. 따라서 저는 저의 관심 분야에 대해 더 깊이 연구하고, 경력을 쌓는 것이 더 중요하다고 생각합니다.
2024.03.14