스펙 · SK하이닉스 / 공정기술

Q. 패터닝 공정 최적화를 주제로 학부 졸업논문(종합설계)을 쓰는게 하이닉스 양산기술 이력에 도움이 될까요?

안녕하세요 이제 4학년에 접어드는 전자과 학부생입니다. 이번에 졸업논문(종합설계)를 " 패터닝 공정 최적화(포토&에칭) " 로 진행 하려고 합니다. 구체적으로는 반도체 공정실습을 진행하는 기관에서 장비들을 이용해, 1) PR 두께 조절 2) exposure & develop 시간 조절 3) plasma etching 과정 중 RF 파워 조절 등을 조작변인으로 두며 미세 패턴을 얼마나 잘 구현할 수 있는가를 초점으로 두고 진행하려고 합니다. 여기서 선배님들이 생각하시기에 부족한 부분과 과한 부분은 어떤게 있을까요? 또한 어떻게 방향성을 보완했으면 할까요? 제가 식견이 짧아 질문이 다소 어설프지만 용기내어 질문드립니다! 감사합니다.