직무 · SK하이닉스 / 공정기술
Q. Q. photolithography 시 development time, exposure time 조절 따른 ADI-CD변화
안녕하세요. 최근 반도체 공정실습 진행 중 photolithography를 진행했습니다. 실험은 1) development time 2) exposure time 따른 ADI-CD 측정을 따로 진행했습니다. Positive PR을 썼고, CD는 공정을 마치고 남아있는 PR패턴의 CD로 정했습니다. 현상 시간 증가 -> 타겟 CD - 결과 CD 평균 증가(+), 산포 감소 노광 증가 -> 타겟 CD - 결과 CD 평균 증가(+), 산포 감소 1. target CD가 100um이고, 예를 들어 노광, 현상 시간 증가에 따라 96(산포 1)->94(산포 0.6)->92(산포 0.5) 로 타겟과 평균값이 멀어지면 시간을 감소시키는 것이 최선일까요? 2. 보통 노광 시간 조절로 CD를 조절한다고 해서, 이유를 알고 싶습니다. 3. 노광, 현상 시간 따라 CD 평균의 감소폭이 비슷하더라고요. 마스크로 빛이 도달 안한 부분도 현상액에 크게 반응하는거면 다른 현상액을 쓸 수도 있을까요?
2025.01.12
답변 3
- 엔엔지니어멘토SK하이닉스코부사장 ∙ 채택률 81% ∙일치회사
채택된 답변안녕하세요. 1번처럼 결과가 나왔다면 시간 줄이는게 방법이 맞습니다. 잘 판단하신겁니다. 노광시간이라는게 결국은 Exposure 진행하는 총량에 영향을주기에 이걸로 인해 CD 영향을 받게되기에 이로인해 CD 조절을 합니다. 빛이 도달했기에 반응을한것이고, 그 영향차이는 충분히 반응을 했는가에 따라 달라지기에 Exposure Time이 영향을 주는것으로 이해하시면 될것같습니다. 현상액은 다른걸 사용해도 가능은하지만 화학적 특성은 비슷해야반응을 하기에 가능하면 바꾸는것보다는 시간조절등으로 컨트롤하시는게 일반적일듯합니다.
- rreinheart우양포토닉스코부장 ∙ 채택률 52%채택된 답변
2 annealing 가능성이 높아요 cd 가 낮아집니다 3 타 현상액 쓰죠 pos 나 neg 도 다 달리 쓰구요 1 타겟과 평균값 멀어지면 시간 감소가 최선일겁니다 타 변수는 온도가 되겠네요
- 하하닉이궁금증해소SK하이닉스코이사 ∙ 채택률 56% ∙일치회사채택된 답변
노광 파장 및 시간에 따라 CD 값에 당연히 노출 시간 차이로 영향이 있을 수 있습니다.현상액을 바꿔보는게 도움이 될수 있습니다
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