Q. 하이닉스 양산기술 질문
안녕하세요 화공과에서 양기 지원했습니다.
하이닉스의 경우 전공정이 etch, photo, diffusion, thin film, c&c로 구성된다고 알고있습니다.
이 중 화공과는 주로 etch,photo,thin film으로 간다던데 diffusion에는 화공과가 많이 없나요?
diffusion공정의 furnace공정은 산화공정+ cvd,pvd를 진행한다고 하던데, thin film 공정의 cvd,pvd와 어떤 차이가 있길래 화공과가 diffusion보다는 thin film공정에 배치되는건지 궁금합니다.