Q. HBM만들때 Photo
HBM은 10nm급 Dram을 수직으로 적층해서 만드는 구조로 알고있습니다!
이때, 사용되는 광원이 무엇인지 궁금합니다! ArF-Immersion을 사용하는지 ArF-Dry를 사용하는지 궁금합니다.
또한, HBM을 만들때 Photo공정팀은 10nm급 Dram을 만들기 위한 패터닝을 진행하나요?
HBM을 만들때 패키징기술이 중요한것은 알고있는데 Photo공정은 어떤역할을 하는지도 궁금합니다.
HBM은 10nm급 Dram을 수직으로 적층해서 만드는 구조로 알고있습니다!
이때, 사용되는 광원이 무엇인지 궁금합니다! ArF-Immersion을 사용하는지 ArF-Dry를 사용하는지 궁금합니다.
또한, HBM을 만들때 Photo공정팀은 10nm급 Dram을 만들기 위한 패터닝을 진행하나요?
HBM을 만들때 패키징기술이 중요한것은 알고있는데 Photo공정은 어떤역할을 하는지도 궁금합니다.
Photo 공정팀은 HBM의 10nm급 DRAM을 위한 패터닝 작업을 수행합니다. 이 과정은 미세한 회로 패턴을 웨이퍼에 형성하는 중요한 단계로, 최종 메모리 성능에 큰 영향을 미칩니다.
Photo 공정은 HBM 제작에서 매우 중요한 역할을 합니다. 이 공정은 고해상도 패턴을 생성하여 DRAM 셀의 구조를 형성하고, 전기적 특성을 최적화하는 데 기여합니다. 따라서, 패키징 기술과 함께 HBM의 성능을 결정짓는 핵심 요소로 작용합니다.
2024.11.09