Q. 증착공정 uniformity
안녕하세요 반도체공정실습을 하면서 산화막 증착 공정을 진행해봤는데요, 웨이퍼 내 dep rate를 시각화 해보니 특정방향으로 dep rate가 증가하는 경향성을 볼 수 있었습니다. 이렇게 불균일한 특성을 보이는 원인에 어떤것들이 있을까요?
안녕하세요 반도체공정실습을 하면서 산화막 증착 공정을 진행해봤는데요, 웨이퍼 내 dep rate를 시각화 해보니 특정방향으로 dep rate가 증가하는 경향성을 볼 수 있었습니다. 이렇게 불균일한 특성을 보이는 원인에 어떤것들이 있을까요?