Q. 포토공정 ADI CD

답변 6

• 졸

  졸린왈루(주)KEC

  코사장 ∙ 채택률 98%

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  안녕하세요 멘티님. 실제로 CD-SEM을 가지고 ADI CD계측을 진행합니다. 측정하는 부분은 제품마다 다르게 정해져있고, LINE, BAR, CONTACT 등 다양한 부분을 측정합니다. 또한 칩 내의 부분을 측정하기도 하지만, SCRIBE LANE 에 측정을 하기도 합니다.

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• i

  iiiiiiiiiiiiiiiii삼성전자

  코이사 ∙ 채택률 63% ∙

  회사

  일치

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  안녕하세요. SEMCD로 측정을합니다. ADI 이기 때문에 Beam 세기를 낮춰서 측정합니다. PR shrink 가 있기 때문에 ACI 는 ADI 측정 Point 에서 10um 정도 이격해서 측정하구요.

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• 메

  메에모리삼성전자

  코상무 ∙ 채택률 48% ∙

  회사

  일치

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  실제로 sem을 이용해서 측정하는 것으로 알고 있어요 ㅎㅎ

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  댓글 1

  이

  이가니다

  2025.03.26

  CD SEM이 아닌 그냥 SEM으로 측정한 것은 불가능할까요?

• 취

  취뽀요정!삼성전자

  코차장 ∙ 채택률 71% ∙

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  일치

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  안녕하세요, adi cd 측정시 in line cd sem 사용해서 측정하고 있습니다. 정규 계측 시 샷 내 지정된 포인트들이 있어서 해당 포인트들을 측정하고 있습니다. focus, dose는 셋업 랏통해 결정된 값을 사용합니다. adi cd 측정을 위해서는 cd sem이 유일한 방법 같네요 pr이 올라간 상태에서 pr에 손상 안가게 in line에서 계측할 수 있는 계측기가 cd sem 밖에 없습니다

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  댓글 1

  반

  반도체가 미래다

  작성자

  2024.08.23

  그러면 대학 연구실에서 광학현미경으로 현상후 패턴을 확인하는건 ADI CD라고 보기가 어렵겠죠?

• M

  Memory Department삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 82% ∙

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  일치

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  안녕하세요! 포토공정에서 ADI CD를 측정할 때, 실제 현장에서는 CD-SEM을 사용하는 것이 일반적입니다. CD-SEM은 미세한 구조의 크기와 형태를 매우 정밀하게 측정할 수 있는 도구로, 포토공정에서 패턴의 정확성을 검증하는 데 필수적입니다. CD-SEM을 사용할 때는 해상도가 중요하며, 패턴의 미세한 세부 사항까지 명확하게 관찰할 수 있어야 합니다. 정확한 측정을 위해 패턴의 폭, 간격, 형상을 정밀하게 분석하고, 미세 구조의 변형이나 불량이 없는지 주의 깊게 살펴야 합니다. 대학교 연구실에서 포토 연구를 할 때, CD-SEM이 아닌 다른 방법으로 ADI CD를 측정하는 것은 제한적일 수 있지만 가능성은 있습니다. 예를 들어, AFM(Atomic Force Microscope)은 나노미터 단위의 표면 구조를 분석할 수 있으며, 광학 현미경은 고해상도 옵티컬 이미징을 통해 일정 범위까지 측정할 수 있습니다. 하지만, CD-SEM이 제공하는 정밀도와 정확도에는 미치지 못할 수 있습니다. 따라서 연구의 목적과 필요에 따라 적절한 장비를 선택하는 것이 중요합니다. 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!

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• 탁

  탁기사삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 77% ∙

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  adi cd는 cd sem으로 측정을 합니다. Strip이 안된상태라 pr이 뒤에 에치맞을곳이 남아있기에, 측정할때 해당 부분을 피크값으로 맞추게 됩니다. 애초에 패턴 간격 측정을 sem으로 하기에 다른 방법은 아직 못본것같습니다.~

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