Gate etch 과정에서 Vertical한 식각 프로파일이 중요한 이유는 여러 가지가 있습니다. 첫째, 수직적인 식각 프로파일은 전기적 특성과 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. Gate가 채널에 영향을 주는 구조이기 때문에, Gate의 형상과 크기가 정확하게 유지되어야 합니다.

둘째, 수직적인 식각은 소자의 스케일이 작아질수록 더욱 중요해집니다. 비대칭적인 식각 프로파일은 전류 흐름에 불균형을 초래할 수 있으며, 이는 소자의 성능 저하로 이어질 수 있습니다.

셋째, 수직적인 식각은 Gate와 채널 간의 접촉 면적을 최적화하여, 소자의 스위칭 속도와 전력 소모를 개선하는 데 기여합니다.

결론적으로, Gate etch 과정에서 Vertical한 식각 프로파일은 소자의 성능과 신뢰성을 확보하는 데 필수적입니다.

웻에치는 비등방성으로 깎이고 일반 드라이에치 (게이트에치)는 버티컬방향으로 깎이게되는데 덜 깎이게된다면 채널에 홀 농도가 줄게되고 패턴이 덜 깎여서 전류생성에 영향을 주게됩니다. 당연히 원하는 만큼 깎으려고해도 수nm단위라서 덜 깎이거나 더 깎이는 현상이존재합니다.

안녕하세요. 멘토 흰수염치킨입니다.
원하는 스펙에 맞는 크기로 채널 형성이 유지돼야 하기 때문이예요
게이트의 크기나 형태에 따라 채널의 전기적 특성이 달라져요
도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^

안녕하세요.

Gate 식각 과정에서 Vertical한 식각 프로파일이 중요한 이유는 다음과 같습니다.

1. 정확한 Gate 길이 확보: 수직 식각이 이루어져야 설계된 Gate 길이를 정확히 유지할 수 있어, 소자의 전기적 특성이 설계대로 구현됩니다.

2. 전기장 균일성: 수직 프로파일은 채널 내 전기장을 균일하게 형성해 전류 흐름을 최적화합니다.

3. 단채널 효과 최소화: 비수직 식각은 Gate 길이를 비대칭적으로 만들어 누설 전류 및 임계 전압 변동을 초래할 수 있습니다.

4. 소자 성능 및 신뢰성 향상: 수직 프로파일이 유지되면 캐리어 이동도가 안정적으로 유지되고, 불필요한 전류 경로를 방지해 소자 신뢰성이 향상됩니다.

결국 핵심은 채널이 불균일하게 식각되면 누설 전류가 증가하게 됩니다. 이 부분이 가장 크리티컬 할 것 같아요

지원자님, 안녕하세요!~ Gate etch 공정에 대해 궁금해하신 부분을 자세히 풀어드릴게요! Gate 식각 과정에서 Vertical한 식각 프로파일이 왜 중요한지, 그리고 그것이 채널에 미치는 영향에 대해 말씀드릴게요~!

Gate는 채널 위에 위치해서 전류의 흐름을 제어하는 핵심적인 역할을 해요. Gate를 통해 전압을 조절하면서 채널에서 전류가 흐르거나 차단되도록 하는 거죠. 이때, Gate 식각이 Vertical하지 않고 기울어지거나 비대칭적으로 식각되면, Gate와 채널 사이의 전기장이 균일하지 않게 형성될 수 있어요. 전기장이 비대칭적이면 채널 내 전자 이동 경로가 왜곡되면서 전류의 흐름이 불안정해질 수 있답니다~!

특히, 미세 공정에서 채널 길이가 짧아질수록 이런 작은 불균일도 소자의 성능에 크게 영향을 줄 수 있어요. Vertical하지 않은 식각으로 인해 Gate가 한쪽으로 더 두꺼워지거나 얇아지면, 채널 내에서 누설 전류가 증가하거나 스위칭 특성이 저하될 수 있어요. 결국, 소자의 신뢰성 문제로도 이어질 수 있기 때문에 Vertical한 식각 프로파일이 아주 중요한 거랍니다!

정리하자면, Vertical한 Gate 식각은 채널에서 균일한 전기장 분포를 보장하고, 소자의 전류 특성과 신뢰성을 유지하기 위해 반드시 필요하다는 거죠!

도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~! ~~