전공 · 삼성전자 / 공정기술
Q. high-k 물질이 도입된 이후 metal gate로 다시 회귀한 이유가 궁금합니다.
그동안 gate로서 poly silicon 혹은 도핑된 poly silicon이 사용되어 온 것으로 알고 있습니다. 하지만 최근 high-k 물질이 도입되면서 다시 metal로 회귀했는데요. 그 이유에 대해서 알려주시면 감사하겠습니다. 여러가지 글들을 찾아봤는데 도통 이해가 안되더라구요.
2020.06.20
답변 1
- llIIIIl삼성전자코사장 ∙ 채택률 79% ∙일치회사
채택된 답변High K - Metal Gate가 양산에 도입된게 2000년도 중반이라서 최근이라고 하기는 좀 그렇습니다. HK - Poly Si Gate 조합보다는 HK - MG 조합이 Mobility가 우수하고 낮은 Vt를 얻을 수 있기 때문에 고성능 TR을 만들 수 있기 때문입니다. 게다가 다양한 Work-function Metal을 조합하면 다양한 Vt 소자를 제공할 수도 있습니다. 구체적인 이론적 내용은 구글 학술에 인텔에서 발표한 논문이 상당히 많으니 도움이 될겁니다.
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